近日有消息称，清华大学EUV项目把ASML的光刻机巨大化，实现了光刻机国产化，并配图称该项目已在雄安新区落地。
对于相关消息，中国电子工程设计院有限公司（以下简称“中国电子院”）官方日前发布微信公众文章予以辟谣。
中国电子院表示网传图中所示项目并非国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS）。该项目坐落于北京怀柔雁栖湖畔，是国家“十三五”重大科技基础设施，它是我国第一台高能量同步辐射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源之一，早在2019年就开始建设，将于2025年底投入使用。
在辟谣的同时，中国电子院还对北京高能同步辐射光源项目做了简单介绍和科普。
据介绍，HEPS的作用是通过加速器将电子束加速到6GeV，然后注入周长1360米的储存环，用接近光速的速度保持运转。电子束在储存环的不同位置通过弯转磁铁或者各种插入件时，就会沿着偏转轨道切线的方向释放出稳定、高能量、高亮度的光，也就是同步辐射光。
HEPS可以看成是一个超精密、超高速、具有强大穿透力的巨型X光机，它产生的小光束可以穿透物质、深入内部进行立体扫描，从分子、原子的尺度多维度地观察微观世界。
中国电子院称，该项目由全国勘察设计大师、国投集团首席科学家娄宇带队、中国电子院多个技术科研和设计团队协同合作，攻克了多项技术和工艺难关，解决了项目不均匀沉降、微振动控制、超长结构设计、光伏板设计、精密温度控制、工艺循环冷却水系统、超复杂工艺系统等七大技术难题，实现了重大技术突破。
目前高能同步辐射光源配套工程已全面完工，向产生世界最“亮”的光又更近了一步。
中国电子院特别指出，HEPS是进行科学实验的大科学装置，并不是网传的光刻机工厂。
