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国产光刻机工厂落地雄安?中国电子院辟谣|第一真相
2023-09-19 08:42  浏览:706  搜索引擎搜索“爱农网”
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近日有消息称,清华大学EUV项目把ASML的光刻机巨大化,实现了光刻机国产化,并配图称该项目已在雄安新区落地。

对于相关消息,中国电子工程设计院有限公司(以下简称“中国电子院”)官方日前发布微信公众文章予以辟谣。

中国电子院表示网传图中所示项目并非国产光刻机工厂,而是北京高能同步辐射光源项目(HEPS)。该项目坐落于北京怀柔雁栖湖畔,是国家“十三五”重大科技基础设施,它是我国第一台高能量同步辐射光源,也是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源之一,早在2019年就开始建设,将于2025年底投入使用。

在辟谣的同时,中国电子院还对北京高能同步辐射光源项目做了简单介绍和科普。

据介绍,HEPS的作用是通过加速器将电子束加速到6GeV,然后注入周长1360米的储存环,用接近光速的速度保持运转。电子束在储存环的不同位置通过弯转磁铁或者各种插入件时,就会沿着偏转轨道切线的方向释放出稳定、高能量、高亮度的光,也就是同步辐射光。

HEPS可以看成是一个超精密、超高速、具有强大穿透力的巨型X光机,它产生的小光束可以穿透物质、深入内部进行立体扫描,从分子、原子的尺度多维度地观察微观世界。

中国电子院称,该项目由全国勘察设计大师、国投集团首席科学家娄宇带队、中国电子院多个技术科研和设计团队协同合作,攻克了多项技术和工艺难关,解决了项目不均匀沉降、微振动控制、超长结构设计、光伏板设计、精密温度控制、工艺循环冷却水系统、超复杂工艺系统等七大技术难题,实现了重大技术突破。

目前高能同步辐射光源配套工程已全面完工,向产生世界最“亮”的光又更近了一步。

中国电子院特别指出,HEPS是进行科学实验的大科学装置,并不是网传的光刻机工厂。

发布人:9858****    IP:117.173.23.***     举报/删稿
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